20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠(chǎng)家
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利用電漿清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)除去孔內(nèi)的灰塵和微蝕刻: 電漿清洗機(jī)從二十世紀(jì)初開(kāi)始。伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，它的應(yīng)用日益廣泛，目前在很多高科技領(lǐng)域都處于核心位置，電漿清洗機(jī)對(duì)產(chǎn)業(yè)...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-28
在真空室引入等離子體刻蝕機(jī)時(shí)，氣體要保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定： 將等離子體刻蝕機(jī)中引入真空，將氣體導(dǎo)入真空室，保持腔內(nèi)壓力穩(wěn)定。依據(jù)清潔材料的不同，可采用氧、氬、氫、氮、氟等多種氣體...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-26
plasam清潔設(shè)備的使用始于二十世紀(jì)初。隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其運(yùn)用越來(lái)越廣泛。目前，它在許多高新技術(shù)領(lǐng)域處于關(guān)鍵技術(shù)的地位。plasam清洗設(shè)備對(duì)工業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類(lèi)文明的干擾最大...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-24
本發(fā)明是根據(jù)低溫等離子刻蝕機(jī)凈化基本原理和機(jī)械離心基本原理設(shè)計(jì)而成，關(guān)鍵由離心分離機(jī)段、高(效)過(guò)濾段、低溫等離子體刻蝕機(jī)凈化部分、消聲部分組成。等離子體刻蝕機(jī)的清潔基本原理...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-22
誠(chéng)峰plasma表面改性可用于使物體具有親水性。將產(chǎn)品表面修改為接受包裝印刷的粘合劑或油墨的任何工藝通常稱(chēng)為等離子體表面修改。這些過(guò)程用于使物體親水(可潤(rùn)濕)。 ...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-17
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